연구업적
논문 (최근 3년간의 실적)
| 년도 | 제목 |
|---|---|
| 2021-01-15 | Surface Analysis of Amorphous Carbon Thin Film for Etch Hard Mask |
| 2020-12-01 | 준지도학습 기반 반도체 공정 이상 상태 감지 및 분류 |
| 2020-09-28 | Understanding of RF Impedance Matching System Using VI-Probe |
| 2020-06-30 | 실리콘 웨이퍼 습식 식각장치 설계 및 공정개발 |
| 2020-04-27 | In situ monitoring of plasma ignition step in capacitively coupled plasma systems |
| 2020-04-21 | Planar heating chuck to improve temperature uniformity of plasma processing equipment |
| 2019-12-01 | 반도체 장비상태 모니터링을 위한 SCADA 시스템 구현 |
| 2019-06-01 | Modeling with Thin Film Thickness using Machine Learning |
| 2019-06-01 | 공정 조건에 따른 비정질 탄소막 표면 물성분석 |
| 2019-05-01 | Performance Evaluation of RF Generators with In-Situ Plasma Process Monitoring Sensors |
| 2019-03-28 | An in situ monitoring method for PECVD process equipment condition |
| 2019-03-01 | 공산품 안전인증에 대한 소비자 태도, 공산품 안전인증 효과에 대한 소비자인식, 공산품안전인증에 대한 소비자 신뢰 분석 |
| 2019-03-01 | Analysis of Optical Plasma Monitoring in Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition Process of Al2O3 |
| 2019-02-09 | Surface coupling of plasma optical emission spectra with bent metal-clad waveguide |
| 2018-05-31 | Optical in situ monitoring of plasma-enhanced atomic layer deposition process |
상훈 (최근 3년간의 실적)
| 년도 | 제목 |
|---|---|
| 2020-08-21 | 2019학년도 학술상 |
연구수탁 (최근 3년간의 실적)
| 년도 | 제목 |
|---|---|
| 2020-07-02 | [RCMS] 200단급 이상 3D NAND용 Oxide 및 Nitride 증착장비 개발(4-1차년도) |
| 2020-06-09 | 반도체 테스트베드 구축 기본구상 연구용역 |
| 2020-06-01 | [RCMS]시스템 반도체 제조용 PVD Sputter 정전척(ESC) 개발(3-1차년도) |
| 2020-05-19 | [RCMS]ALD 공정 생산성 향상을 위한 부산물처리用 高용량(기존 대비 2배 이상) 플라즈마 배기 처리 시스템 개발(4-1차년도) |
| 2020-03-01 | [5-4차년도]사회맞춤형 산학협력 선도대학(LINC+)육성사업(사회맞춤형 학과 중점형) |
| 2020-03-01 | 스마트 예지 정비 기능의 반도체 공정 장비 제어 기술 개발(3-2차년도) |
| 2020-03-01 | [RCMS]스마트 예지 정비 기능의 반도체 공정 장비 제어 기술 개발(3-2차년도) |
| 2020-03-01 | [RCMS]산학프로젝트 기반 반도체소재부품장비기술 전문인력양성(5-2차년도) |
| 2020-01-01 | [RCMS]반도체 공정 챔버 세정용 불소 가스를 사용하지 않는 플라즈마 처리 시스템 개발[4-4차년도] |
| 2019-10-01 | [RCMS]차세대 반도체 소재·부품·장비 글로벌 경쟁력 선도를 위한 재직자교육사업 |
| 2019-09-20 | 스마트 예지 정비 기능의 반도체 공정 장비 제어 기술 개발(3-1차년도) |
| 2019-09-20 | [RCMS]스마트 예지 정비 기능의 반도체 공정 장비 제어 기술 개발(3-1차년도) |
| 2019-08-05 | [RCMS]반도체 인프라를 활용한 수요 맞춤형 플랫폼 구축 |
| 2019-04-19 | [RCMS]산학프로젝트 기반 반도체소재부품장비기술 전문인력양성(5-1차년도) |
| 2019-04-15 | [5-3차년도]사회맞춤형 산학협력 선도대학(LINC+)육성사업(사회맞춤형 학과 중점형) |
| 2019-01-01 | [RCMS]반도체 공정 챔버 세정용 불소 가스를 사용하지 않는 플라즈마 처리 시스템 개발[4-3차년도] |
| 2018-08-23 | Multi-zone Esc 온도제어 및 분석을 위한 On-wafer Temperature Sensor(OTS) 시스템 개발 |
| 2018-07-19 | 인피콘 제품 평가 |
| 2018-06-01 | [RCMS]반도체 공정 챔버 세정용 불소 가스를 사용하지 않는 플라즈마 처리 시스템 개발[4-2차년도] |
| 2018-04-23 | [RCMS]첨단센서 소재부품 설계·소재·공정 기술혁신 전문인력양성[3-3차년도] |
| 2018-04-09 | [5-2차년도]사회맞춤형 산학협력 선도대학(LINC+)육성사업(사회맞춤형 학과 중점형) |
지적재산권 (최근 3년간의 실적)
| 년도 | 제목 |
|---|---|
| 2020-11-02 | 실리콘 웨이퍼 습식 식각 장치 및 이의 조립 공정 |
| 2019-09-02 | 신호 감지 거리 조절이 가능한 알에프 파워 센서 및 구조체 |
| 2019-03-22 | 3차원 마이크로 링 공진기 |
| 2018-11-05 | 신호 출력 감도 조절이 가능한 알에프 센서 |
| 2018-11-05 | 신호 출력 감도 조절 및 위상차 보정이 가능한 알에프 센서 |
학술대회발표 (최근 3년간의 실적)
| 년도 | 제목 |
|---|---|
| 2021-01-18 | Effect of Hard Mask Deposition/Strip Process Temperature on SiOH Low-k Dielectric Film |
| 2021-01-18 | In-Situ Optical Monitoring of Atmospheric Pressure Glow Discharge Plasma in Organic Surface Cleaning |
| 2021-01-18 | Kinetic Mechanism of Reactive Oxygen/Nitrogen Species for Plasma Assisted Greenhouse Gas Replacement |
| 2021-01-18 | Surface Analysis of Low-k Dielectrics after Amorphous Carbon Layer Strip Process |
| 2020-02-11 | Applying Adaptive Boosting for Fault Detection and Classification in Semiconductor Process Equipment |
| 2019-11-22 | Planar Heating Chuck to Improve Temperature Uniformity of Plasma Processing Equipment |
| 2019-11-22 | In-situ Process Monitoring for Eco-friendly Chemical Vapor Deposition Chamber Cleaning |
| 2019-11-22 | In-situ Monitoring of Plasma Ignition Steps in Capacitively Coupled Plasma System |
| 2019-11-06 | Surface Properties of Amorphous Carbon Thin Film for Dry Etch Hard Mask |
| 2019-11-06 | Surface Properties of Amorphous Carbon Thin Film for Dry Etch Hard Mask |
| 2019-10-20 | Virtual Metrology on Thin Film Deposition Process for Semiconductor Fabrication |
| 2019-08-14 | Chamber 내부 Coating 물질별 내 플라즈마 저항 특성연구 |
| 2019-08-14 | 식각장비의 GDP 표면의 절연체 두꼐에 따른 영향성 해석 |
| 2019-08-14 | 유연기판 균일 압력을 위한 곡면설계 |
| 2019-08-14 | RF 임피던스 정합장치 연구 |
| 2019-05-09 | OPM 센서를 사용한 Ashing 공정 모니터링 |
| 2019-05-09 | 머신 러닝을 사용한 비정질 탄소막 두께 모델링 |
| 2019-05-09 | 기업체 현장경험을 통한 취업역량 향상에 관한 연구 |
| 2019-05-09 | 반도체 장비 제어를 위한 PLC 활용 SCADA 시스템 구축 |
| 2019-05-09 | 비정질 탄소막 증착 공정에서의 가상 계측 모델링 |
| 2019-05-09 | 샤워헤드 구조 변경에 따른 웨이퍼 표면의 가스 속도 시뮬레이션 |
| 2019-05-09 | 전기적 및 광학적 진단 센서를 사용한 PECVD 장비 건전성 평가 |
| 2019-05-09 | 실시간 웨이퍼 온도 측정 및 분석 소프트웨어 개발 |
| 2019-05-09 | O2, H2, Ar 가스를 이용한 비정질 탄소막 챔버 세정 공정 모니터링 |
| 2019-05-09 | 초박막 실리콘 산화막 경도 예측 |
| 2019-05-09 | 정전척 표면 구조에 따른 온도 균일도 분석 |
| 2019-05-09 | 공정 조건에 따른 비정질 탄소막 표면 물성 분석 |
| 2019-05-09 | 챔버 내벽 보호를 위한 대체 코팅 물질 분석 |
| 2018-07-28 | In-Situ Monitoring Method of Plasma Process Equipment Condition: Deposition andCleaning |
| 2018-07-28 | Performance Evaluation Method of RF Generators with In-Situ Plasma Process Monitoring Sensors |
| 2018-07-26 | Designand Fabrication of Silicon Photonics Grating Couplers for Spatially ResolvedPlasma Uniformity Monitoring Sensor |